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光催化技术是在光的作用下发生的化学反应。
光化学和光催化氧化方法是当前先进的氧化技术。
光催化氧化技术通过光激发氧化将发光与O2和H2O2等氧化剂结合在一起。
所使用的光主要是紫外线,包括uv-H2O2,uv-O2和其他可用于处理耐火材料的工艺,例如废水中的CCl4和多氯联苯。
此外,使用紫外线的Fenton系统在紫外线和铁离子之间具有协同作用,从而显着加速H2O2的分解以生成羟基自由基并促进有机物氧化的去除。
扩展数据原理导致光腔带有正电荷和负电荷。
光蚀的强氧化能力和减少光生电子的能力导致出现半导体光催化剂发生的一系列光催化反应。
大多数学者认识到羟基自由基在半导体的光催化氧化中的反应机理。
历史1972年,藤岛和本田在n型TiO2半导体电极上发现了光催化水反应,并向《自然》杂志宣布了“水半导体电极的电化学光解”,开启了一个新时代。多相光催化剂。
在1990年代,随着纳米技术的出现以及光催化在环境保护,医疗保健和有机合成中的快速应用,纳米级光催化研究已成为世界上最活跃的研究领域。一。
参考:百度百科-光催化氧化技术